La Chine accuse un retard de 10 à 15 ans dans l’industrie des semi-conducteurs, notamment en raison de l’interdiction d’exporter des technologies de lithographie EUV. Malgré les progrès de SMIC et Huawei, ils dépendent des outils DUV d’ASML pour produire des puces. Le développement d’une technologie de lithographie ultraviolette extrême par des entreprises chinoises pourrait prendre une décennie. Les pressions américaines sur ASML compliquent la situation, tandis que les entreprises chinoises restent des clients clés, générant d’importants revenus pour la société.
Le Retard de la Chine dans l’Industrie des Semi-conducteurs
Malgré les progrès significatifs réalisés par SMIC et Huawei dans le domaine des semi-conducteurs ces dernières années, ces entreprises accusent un retard de 10 à 15 ans par rapport à des leaders du secteur tels qu’Intel, TSMC et Samsung. Christophe Fouquet, le directeur général d’ASML, souligne que malgré l’utilisation d’outils DUV de haute qualité, SMIC ne peut pas rivaliser avec les technologies de TSMC de manière économiquement viable. Ce défi majeur découle de l’incapacité des entreprises chinoises à accéder aux outils de lithographie EUV de pointe.
Les Enjeux de la Lithographie en Chine
Christophe Fouquet a déclaré dans une interview que l’interdiction d’exporter des technologies EUV a des conséquences significatives pour la Chine, qui se retrouve ainsi 10 à 15 ans derrière l’Occident. Bien qu’ASML n’ait jamais expédié ses outils EUV en Chine en raison de l’Arrangement de Wassenaar, la société continue de fournir des outils de lithographie DUV avancés, comme le Twinscan NXT:2000i, capables de produire des puces avec des technologies de processus de 5 nm et 7 nm.
En conséquence, SMIC a été en mesure de produire des puces pour Huawei en utilisant ses technologies de processus de 7 nm de première et deuxième génération, ce qui a aidé les entreprises chinoises à naviguer à travers les sanctions imposées par le gouvernement américain.
Conscients de l’absence d’outils EUV, Huawei et ses partenaires se tournent vers le développement de leur propre lithographie ultraviolette extrême, un projet qui pourrait prendre une décennie ou plus. Il est à noter qu’ASML et ses partenaires ont mis plus de 20 ans à développer un écosystème complet pour l’EUV. Bien que les entreprises chinoises puissent s’appuyer sur certaines technologies historiques, le chemin à parcourir reste vaste.
La principale inquiétude n’est pas tant la possibilité pour les entreprises chinoises de développer leurs propres outils EUV, mais plutôt leur capacité à reproduire les machines DUV d’ASML dans les années à venir. Le gouvernement américain exerce des pressions sur ASML pour qu’elle suspende la maintenance de ses systèmes DUV avancés en Chine, mais le gouvernement néerlandais n’a pas encore donné suite à cette demande. ASML souhaite conserver le contrôle de ses machines pour éviter le risque de fuite d’informations critiques.
Actuellement, les entreprises chinoises figurent parmi les principaux clients d’ASML, permettant à la société de générer des milliards de revenus grâce à la vente d’outils de lithographie DUV à des acteurs comme SMIC et YMTC. L’avenir reste incertain quant à ce qui se produira lorsque les fabricants chinois développeront leurs propres systèmes de lithographie DUV, mais cela pourrait potentiellement réduire leurs dépendances vis-à-vis d’ASML ou leur permettre d’exporter ces outils, créant ainsi une compétition directe.